ایسنا/چین از یک منبع فشرده لیتوگرافی فرابنفشِ شدید رونمایی کرده است که امکان ساخت تراشههای ۱۴ نانومتری را بدون ماشینهای غولپیکر لیتوگرافی مواد نیمههادی پیشرفته فراهم میکند. محققان چینی ادعا میکنند که یک منبع نور جدید لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) را در اندازه رومیزی برای تولید ریزتراشههای ۱۴ ن