موفقیت دانشمندان ایرانی در نفوذ به نانوساختار سیلیکون

با یک اثر بذری نوظهور تا جایی ادامه پیدا می‌کند که نانو حفره‌های زیرسطحی از پیش‌ساخته شده، میدان قوی بسیاری را در اطراف خود ایجاد ‌کنند