شرکت Destination 2D مستقر در کالیفرنیا، ادعا می‌کند که هر دو مشکل را حل کرده است. این استارتاپ موفق به توسعه روشی برای رسوب‌گذاری گرافن روی تراشه‌ها در دمای ۳۰۰ درجه سانتی‌گراد شده است؛ دمایی که با روش متداول ساخت CMOS سازگار است.