چین در حال آزمایش نخستین ابزار لیتوگرافی EUV بومی خود است؛ فناوری‌ای که می‌تواند انحصار شرکت هلندی ASML را در تولید تجهیزات پیشرفته نیمه‌هادی به چالش بکشد.اگر این پروژه موفق باشد، چین می‌تواند محدودیت‌های ناشی از تحریم‌های آمریکا را دور بزند و صنعت نیمه‌هادی داخلی خود را وارد مرحله‌ای جدید کند.

برنا- گروه علمی و فناوری: محققان اولین آرایه نمایشگر microLED اشعه ماوراء بنفش عمیق (UVC) را تولید کردند.

روسیه قصد دارد ابزارهای لیتوگرافی EUV با طول موج ۱۱.۲ نانومتر تولید کند که ارزان‌تر و ساده‌تر از سیستم‌های ASML باشد. بررسی نقشه راه جدید روسیه برای تولید تراشه‌های پیشرفته.

پردازنده‌های سری AMD Ryzen 9000 بر پایه معماری Zen 4 طراحی شده‌اند که نسبت به نسل قبلی یا همان Zen 3 پیشرفت‌های چشمگیری در زمینه کارایی و بهره‌وری انرژی داشته است. معماری Zen 4 با استفاده از لیتوگرافی ۴ نانومتری TSMC توسعه یافته است که این بهبود باعث شده تا پردازنده‌های این سری به‌طور قابل‌توجهی مصرف …