چین در حال آزمایش نخستین ابزار لیتوگرافی EUV بومی خود است؛ فناوری‌ای که می‌تواند انحصار شرکت هلندی ASML را در تولید تجهیزات پیشرفته نیمه‌هادی به چالش بکشد.اگر این پروژه موفق باشد، چین می‌تواند محدودیت‌های ناشی از تحریم‌های آمریکا را دور بزند و صنعت نیمه‌هادی داخلی خود را وارد مرحله‌ای جدید کند.

شرکت Micron به تازگی از نسل جدید تراشه‌های حافظه DDR5 خود رونمایی کرده است که با استفاده از لیتوگرافی EUV و فرایند ساخت جدید جدید 1γ (1 گاما) این شرکت، امکان ساخت حافظه‌های DDR5 با سرعت 9200MT/s و ۲۰ درصد مصرف انرژی کمتر را فراهم ساخته است.

شرکت مایکرون روز ۲۵ فوریه از تراشه 16 گیگابیتی DDR5 خود پرده برداشت که با فرایند ساخت جدید 1γ (1-gamma) و فناوری لیتوگرافی EUV تولید شده‌اند.

روسیه قصد دارد ابزارهای لیتوگرافی EUV با طول موج ۱۱.۲ نانومتر تولید کند که ارزان‌تر و ساده‌تر از سیستم‌های ASML باشد. بررسی نقشه راه جدید روسیه برای تولید تراشه‌های پیشرفته.

دولت هلند در جدیدترین اقدام برای محدود کردن دسترسی چین به تجهیزات پیشرفته تولید تراشه، شرکت ASML را ملزم کرده تا برای صادرات دستگاه‌های لیتوگرافی قدیمی‌تر به چین از جمله تجهیزات DUV، از دولت هلند مجور بگیرد.